Ngành công nghiệp bán dẫn của Trung Quốc vừa ghi nhận bước tiến công nghệ quan trọng khi một báo cáo cho biết quốc gia này đã chế tạo thành công nguyên mẫu máy in thạch bản EUV nội địa đầu tiên.
Mỹ đã nhiều lần lo ngại Trung Quốc có thể sản xuất máy EUV riêng
ẢNH: ASML
Theo Reuters, những nỗ lực phân tích ngược và thu hút nhân tài kéo dài nhiều năm của các công ty Trung Quốc đã mang lại kết quả tích cực cho quốc gia này. Nguyên mẫu máy in thạch bản EUV được phát triển được cho là đã hoạt động hoàn toàn và có khả năng tạo ra ánh sáng tia cực tím cần thiết cho chất cản quang. Tuy nhiên, mặc dù đây là một bước đột phá đáng khích lệ, Trung Quốc vẫn phụ thuộc vào các linh kiện cũ từ ASML.
Tham vọng EUV của Trung Quốc bắt đầu thành hình
CEO ASML Christophe Fouquet từng nhận định rằng Trung Quốc sẽ cần "rất, rất nhiều năm" để phát triển công nghệ này. Tuy nhiên, sự xuất hiện của nguyên mẫu EUV cho thấy Trung Quốc có thể đang tiến gần hơn đến mục tiêu độc lập về công nghệ bán dẫn, nhanh hơn so với dự đoán của các nhà phân tích.
Mặc dù máy in thạch bản EUV có nhiều phức tạp và hiện vẫn chưa sản xuất ra bất kỳ chip nào, các nguồn tin cho biết Trung Quốc có thể đưa công nghệ EUV trở thành chủ đạo vào năm 2030 - một mốc thời gian sớm hơn nhiều so với các ước tính trước đây.
Trong bối cảnh bùng nổ của trí tuệ nhân tạo (AI), nhu cầu về chất bán dẫn tự sản xuất tại Trung Quốc đã gia tăng đáng kể. Các công ty như Huawei đang tích cực xây dựng mạng lưới cơ sở vật chất hợp tác với SMIC để nâng cao năng lực sản xuất chip. Đáng chú ý, quy trình N+3 của SMIC, được cho là đối thủ của quy trình 5nm phổ biến, đã được phát triển nhằm vượt qua những hạn chế công nghệ mà Trung Quốc đang phải đối mặt.
Hiện vẫn chưa rõ thông tin về cách thức hoạt động của máy EUV từ Trung Quốc, đặc biệt là về nguồn sáng và các thông số kỹ thuật khác. Tuy nhiên, đây rõ ràng là bước phát triển quan trọng trong ngành công nghiệp bán dẫn của quốc gia này.
