"Đây không phải ảo thuật hay màn trình diễn trong thời gian ngắn mà là một hệ thống có thể tạo công suất 1.000 W với đầy đủ điều kiện như tại cơ sở của khách hàng", Michael Purvis, kỹ thuật viên phụ trách nguồn sáng của máy quang khắc siêu cực tím (EUV) tại ASML, nói với Reuters.
ASML là nhà sản xuất máy EUV thương mại duy nhất trên thế giới. Việc công suất nguồn sáng EUV tăng từ mức 600 W hiện tại lên 1.000 W sẽ cho phép sản xuất nhiều chip hơn mỗi giờ, từ đó giảm chi phí. Theo công ty Hà Lan này, đột phá mới có thể cải thiện sản lượng chip tới 50% vào cuối thập kỷ, giúp duy trì lợi thế cạnh tranh với những đối thủ mới nổi tại Mỹ và Trung Quốc.
